專利面詢新制七月起正式上路
經濟部智慧財產局為協助專利申請人與審查人員間之雙向溝通，提升面詢品質及效率，7月1日起，面詢新制正式上路，同時修正專利案面詢作業要點，專利申請人面詢時應提出申請書，載明面詢事項及說明，具體陳述面詢時所欲溝通之主題，改善過去因當事人意思表示不清楚造成是否辦理面詢之爭議，便於雙方進行面詢時之溝通。

為使申請人瞭解並適應面詢新制之運作，智慧財產局於今年4~6月已進行面詢改善方案之試行，試行期間就參與面詢曾發生的問題，諸如申辦面詢時機、面詢地點、出席人員資格……等相關問題彙整如附件。

現行面詢新制是藉由「面詢事項與說明」以提升面詢效益，未來智慧局亦將著手進行面詢空間與硬體設備之規劃與建置，希望透過新制措施及硬體之整合，建立更加友善及有效率之面詢溝通環境。

附件下載:面詢Q&A  及  面詢作業要點

資料來源:經濟部智慧財產局
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