慧財產局公布2016年第4季智慧財產權趨勢
105年第4季，專利新申請案較去年減少1.71%，商標註冊較上年同期成長3.12%。一、 專利申請趨勢
(一) 105年第4季，發明、新型、設計三種專利新申請案較上年同期減少1.71%。。
(二) 發明專利申請當中，本國人成長2.98%，外國人減少2.50%。外國人部分，以日本最高，其次依序為美國、中國大陸、南韓。
(三) 發明專利申請法人前三大，本國法人部分為:台積電、工研院、英業達。外國法人部分為:英特爾、半導體能源研究所 、高通。
(四) 發明專利申請大專院校前三大，為南開科技大學、清華大學，勤益科技大學。
二、 專利發證趨勢
(一) 105年第4季，三種專利公告發證案減少3.54%。其中發明減少4.09%、新型減少0.94%、設計減少6.64%。
(二) 發明專利發證當中，本國人減少5.73%，外國人減少2.78% 。外國人部分，以日本高，其次為美國、南韓、中國大陸。
(三) 發明專利發證前三大，本國法人部分為:鴻海、工研院 、台積電。外國法人前三大分別為:英特爾、半導體能源研究所、東京威力。
三、 商標申請趨勢
(一) 105年第4季，商標註冊申請案21,157件，成長3.12%。
(二) 本國人15,351件，外國人5,806件，分別成長2.11%、5.91%(如表1)。
(三) 商標申請前三大,外國人部分為:中國大陸，日本、美國。
附件下載：統計圖表
資料來源:智慧財產局網站